ニューフレアテクノロジーの「【E 13】半導体製造装置の安全保障輸出管理関連法令対応（法令調査・社内周知・業務効率化）～シェアNo1 電子ビーム描画装置メーカー～：株式会社ニューフレアテクノロジーでの募集です。 法務のご経験のある方は歓迎です。」求人情報

誰も見ていない、限界のその向こう

半導体製造装置市場は、最先端技術を必要とするため開発難易度が高く、他社の参入が非常に困難な領域です。その中でニューフレアテクノロジーは究極の微細加工技術の追求で世界トップレベルの描画精度を誇り、世界における最先端の電子ビームマスク描画装置において、ほぼ100％のシェアを獲得しています。
世界の半導体市場は、いまや全体で年間45兆円を超すと言われていますが、私たちの生活に欠かせない半導体の多くが、ニューフレアテクノロジーの電子ビームマスク描画装置を使って量産されています。半導体市場を支えているのが、ニューフレアテクノロジーの技術力です。
当社が開発している半導体製造装置は、3つの分野にひろがっています。微細な回路パターンをフォトマスクに高精度で描く「電子ビームマスク描画装置」、フォトマスクの欠陥を検査する「マスク検査装置」、シリコンウエハに単結晶の薄膜を成長させる「エピタキシャル成長装置」を事業の柱としています。

【ニューフレアテクノロジーの特徴】
★電半導体製造装置において、研究開発から製造、販売、保守までを一貫
★国内勤務地が横浜1か所のため転勤無し
★研究開発費率が20%を超える高水準
★経済産業省より「グローバルニッチトップ100選」に選定
★借上げ社宅制度や奨学金支援制度で生活をサポート　　etc…

世界に誇る最先端技術

#1「電子ビームマスク描画装置」
電子ビームマスク描画装置（EBM）は、半導体デバイスの生産工程において、コンピュータ上で設計された半導体素子回路をシリコンウェアへ転写する際の原板となる「フォトマスク」を描画します。電子ビームマスク描画装置を活用した描画はLSIチップの高集積化に伴う微細化パターン形成のために1970年代後半から実用化され、今ではマスク製造装置の主流になっています。ニューフレアテクノロジーの装置では、東京タワーから富士山山頂にある1.6mmの的を射抜けるほどの高精度の描画が可能となっています。

#2「マスク検査装置」
マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画されたフォトマスクの欠陥を高速で検査し、半導体の歩留まり向上に貢献します。フォトマスクに描画される回路パターンは、より一層細かく複雑なものとなり、検査装置の重要性は年々高まっています。当社では2006年よりマスク検査装置事業をスタートさせ、電子ビームマスク描画装置と同一のデータを用いた信頼性の高い検査を可能にするとともに、機能連携によりシステム化も実現。検査光源に199nmのレーザーを搭載。マスクの上下から透過光と反射光を同時に照射し、検出画像をセンサーに反映させる光学技術を導入し、高感度と検査時間の短縮を図っています。

#3「エピタキシャル成長装置」
エピタキシャル成長とは、シリコンなどからなるウェハ上に結晶方位が揃った単結晶の薄膜を成長させる技術。そのために用いられるのがエピタキシャル成長装置です。LED、ハイブリッド車・電気自動車用のパワーデバイスといった半導体をつくる上で、この装置は欠かせません。1980年から30年以上にわたり製造・販売してきましたが、2013年にはLED向けのGaN-on-Si用MOCVD装置を製品化。続く2014年には、SiCデバイス向け成膜装置を製品化しています。当社の装置は、生産性と総合的な装置の完成度の高さにより、世界中から評価を受けています。